资源简介 (共12张PPT)晶体的能带晶体的能带Eg随x的变化关系IV族元素Si、Ge可以形成连续固溶体,构成混合晶体,其能带结构随合金成分的变化而变化。写为Si1-xGex (0≤x≤1),x称为混晶比(或固相组分).在0≤x≤0.85时,其能带结构与Si类似; 0.85≤x≤1时,能带结构与Ge类似。因为当Si含量小时,<111>能谷为导带底;随着Si含量的增大,<111>导带极值和<100>导带极值以不同速率相对价带顶上移,<111>极值上升较快,在x=0.85时,两种能谷达到同一水平,在Si含量大于0.15后,<100>能谷代替<111>能谷为导带底,能带变为类硅型的。五、III-V族化合物半导体的能带:1、GaAs1-xPx 2、Ga1-xInxAsyP1-yGaAsP的Eg与组分的关系GaPGaAsInPInAsGaInAsP的Eg与组分的关系实线为等带隙线,虚线为等晶格常数线。阴影表示该组分内材料为间接带隙半导体虚线表示间接带隙半导体1.82.02.22.42.62.83.01234567Band gap energy (eV)Bond length ( )AlNGaNMgSMgSeZnSInNZnSeCdTeInPGaAsZnOAlPGaPAlAsDirect band gapIndirect band gapGroup III-nitrides: covering the wavelength region from UV to IRInN-GaN-AlN system covers a wide range of spectrumAlInGaN体系的能带结构,在自然界材料体系中是空前绝后的能带间隙全部是直接带隙,从深紫外到远红外上堂课回顾:B Si、Ge和GaAs的能带结构:Si的导带:极小值在[100]方向上,6个能谷,等能面为旋转椭球;Ge的导带:极小值在[111]方向的BZ边界上,4个能谷,等能面为旋转椭球;Si和Ge的价带:极大值在BZ中心(k=0处),3个能带,重空穴带,轻空穴带,自旋-轨道耦合劈裂带;Si和Ge:导带极小值和价带极大值在k空间不同点间接带隙半导体;GaAs的导带和价带:导带极小值和价带极大值皆在BZ中心,等能面为球面。 直接带隙半导体B 化合物半导体:二元合金,如GaAs三元合金,如GaAs1-xPx四元合金,如Ga1-xInxAsyP1-y另一种表述方法:受主杂质电离过程中性受主=带负电的受主离子+空穴空穴激发到价带,失去空穴杂质电离思考题:p61图3.20 (b)受主能级杂质补偿: ( impurity compensation)如果半导体中同时含有施主和受主杂质,由于受主能级比施主能级低得多,受主杂质也要首先接受来自施主杂质的电子,剩余的受主杂质才能接受来自价带的电子。施主和受主杂质之间这种互相抵消的作用,称为杂质补偿。在这种情况下,半导体的导电类型由浓度大的杂质来决定。施主浓度大于受主浓度时,半导体是N型;反之则为P型。二、III-V族化合物半导体中的杂质在Ⅳ族元素半导体中,取代Ⅳ族原子占据晶格位置的Ⅴ族原子成为施主杂质,而Ⅲ族原子却成为受主杂质。这个结果说明,在半导体中,杂质原子的价电子数与晶格原子的价电子数之间的关系,是决定杂质行为的一个重要因素。则可知,在Ⅲ—Ⅴ族化合物半导体中,取代晶格中Ⅴ族原子的Ⅵ族原子(如Se、Te),是施主杂质;取代Ⅲ族原子的Ⅱ族原子(如Zn、Mg、Cd) ,是受主杂质。两性杂质:IV族原子(如Si、Ge)在III-V族半导体中为两性杂质。若取代III族原子,是施主杂质;若取代V族原子,是受主杂质,这种杂质称为两性杂质。具体行为与杂质浓度和外部条件有关:如GaAs:Si,Si浓度<1018cm-3时,Si基本只取代Ga 施主; Si浓度>1018cm-3时,部分Si取代As 受主, 补偿SiGa施主.等电子杂质和等电子陷阱:当杂质原子和晶格原子的价电子数相等时,杂质通常称为等电子杂质。等电子杂质替代相同价电子数的晶格原子(组分原子)后,由于其负电性不同,可以束缚电子。由等电子杂质形成的陷阱称为等电子陷阱。应用:如GaP:N LEDN与P同为V族元素,N比P的原子序数小,而负电性大,则可形成等电子陷阱。深能级硅或锗中的Ⅲ族和Ⅴ族杂质,Ⅲ—Ⅴ族化合物半导体中的ⅡB族和 Ⅵ族杂质,都在禁带中引入浅能级,实际上,在半导体中还存在另一 类杂质:它们的能级在禁带中心附近,常称这样的能级为深能级。深能级杂质的特点:①电离能大,对热平衡中的载流子浓度无显著影响;②但对半导体的其他性质有显著影响:作为电子和空穴的复合中心,可以缩短非平衡载流子的寿命。③深能级杂质可产生多次电离,每次电离相应地形成一个能级,因而可在禁带中引入多重杂质能级。有的杂质既可以作为施主,又可以成为受主,称之为两性杂质。 展开更多...... 收起↑ 资源预览